Jariñu masinu gravure ci plasma

Equipement ICP dafa am ñeenti pàcc: pre-chambre vide, chambre gravure, sistemu joxe gaz ak sistemu vide.

(1) Néeg bu amul vide

Li liggéeyu chambre pre{0}}vide mooy fexe ba chambre etching bi nekk ci niveau vide buñ tëral, te environmaa bi ci biti duko yàq (lu melni pënd, vapër ndox), ba noppi di xàjjale gaz yu mëna jur loraange yi ci néeg bu set bi. Dafa am muur, manipulatër, mekaniismu transmisioŋ, buntu isolation, ak ñoom seen.

(2) Chambre de gravure

Chambre de gravure mooy structure core bi ci aparey gravure ICP. Dafa am njeexital ci viteesu gravure bi, ci taxawaayu gravure bi, ak ci ñaq gi. Koposaŋ bi gëna am solo ci saalu gravure bi mooy: electrode bi ci kaw, fréquence radio ICP, fréquence radio RF, sistem electrode bi ci suuf, sistem biy saytu tàngoor wi, ak ñoom seen.

(3) Sistemu joxe gaz

Sistemu joxe gaz bi mooy yóbbu gaz gravure yu bari ci saalu gravure bi, ba noppi di saytu bu baax debit gaz bi ak debit bi jaare ko ci régulatëru presion bi (PC) ak régulatëru debit bu masse bi (MFC). Sistemu joxe gaz bi dafa am butéelu gaz, tuyo biy yóbbu gaz bi, sistem buy saytu, jumtukaayu jaxase, ak ñoom seen.

(4) Sistemu aspiratër
Amna ñaari sistem yu am vide, benn bi mooy chambre vide bi njëkk, beneen bi mooy chambre gravure bi. Pompe mekanik mooy rawale néegu pre-vide bi. Su niveau vide bi ci chambre vide bi yeggee ci valeur biñ tëral rek lañu mëna ubbi buntu isolation bi ngir toxal wafer bi. Pompu mekanik ak pompu molekulaar ñooy joxe vide bi ci biir néegu gravure bi. Gaz yiy bawoo ci reaction bi ci biir néegu gravure bi itam sistemu vide bi moo leen di rawale.